1. surovine silicijevih palic
Surovine za izdelavo silicijevih palic so v glavnem visoke - čistosti polikristalni silicij. Polikristalni silicij se pripravlja po metodah, kot so odlaganje hlapov, vlečenje in elektrokemično čiščenje. Večja kot je čistost polikristalnega silicija, boljša je kakovost pridobljenih silicijevih palic.
2. Proces rasti silicijevih palic
Rast silicijevih palic dosežemo s kemičnim odlaganjem hlapov (CVD) ali posamezno rastjo kristalov (CZ). Pri metodi CVD polikristalne silicijeve palice reagirajo pri visoki temperaturi, da razgradijo silicijev plin in ga nanesejo na površino silicijevih palic, postopoma gojijo enojne kristalne silicijeve palice. Pri metodi Cz se polikristalne silicijeve palice topijo pri visoki temperaturi in po dodajanju dopantov prerastejo v enojne kristalne silicijeve palice na enojnih kristalnih silicijevih semenah.
3. Proces obdelave silicijevih palic
Po zaključku rasti silicijevih palic so potrebni za obdelavo korakov, kot so rezanje, mletje in poliranje, za pridobitev silicijevih rezin, ki ustrezajo zahtevam. V proizvodnem procesu silicijevih rezin je potreben strog nadzor kakovosti, da se zagotovi čistost in dimenzijska natančnost silicijevih rezin.
4. Uporaba proizvodnje silicijeve palice
Proizvodnja silicijeve palice se pogosto uporablja, predvsem v industriji polprevodnikov, industriji optoelektronike, sončnih celicah in drugih poljih. Med njimi je industrija polprevodnikov najbolj široko uporabljeno polje za silicijeve palice, silicijeve rezine iz silicijevih palic pa so glavni material za polprevodniške čipe. V industriji Optoelectronics se silicijeve rezine iz silicijevih palic uporabljajo predvsem za proizvodnjo optičnih vlaken, sončnih celic itd.